MDA-20SA光刻機
光刻機,鍍膜機,磁控濺射鍍膜儀,電子束蒸發(fā)鍍膜儀,開爾文探針系統(功函數測量),氣溶膠設備,氣溶膠粒徑譜儀,等離子增強氣相沉積系統(PECVD),原子層沉積系統(ALD),快速退火爐,氣溶膠發(fā)生器,稀釋器,濾料測試系統
光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
MIDAS為半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發(fā)與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術、工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
MDA-20SA光刻機產地:韓國MIDAS公司,唯1能做到圖形化藍寶石襯底(PSS)光刻機,高性價比
型號:MDA-20SA
MDA-20SA光刻機
操作簡單,可編程控制器(PLC)操作,PC控制,圖像采集和數據記錄,100多個程序配方,電動操縱桿控制,電動變焦顯微鏡和工作臺,顯微鏡位置控制系統
操縱桿控制,半自動
掩模版尺寸規(guī)格,用戶訂制
基板尺寸規(guī)格(大面積),用戶訂制
均勻光束規(guī)格,用戶訂制
紫外線光源:紫外線燈,5 kW
光束波長350~450 nm
光束均勻度<±7%
365 nm強度5 kW: ~45 mW/?
對準方法:操縱手柄控制半自動
對準精度1 um
工藝模式:軟、硬、真空接觸和接近
分辨率:透鏡 >3 um,反射鏡:>9 um



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