半導體制造用多波段等離子體工藝監(jiān)測器

半導體制造用多波段等離子體工藝監(jiān)測器

1. 光譜范圍與速度
• 一次即可捕獲 200 nm–950 nm 寬波段等離子體發(fā)射光譜

  。
• 最快 20 ms（啟用檢測軟件時 50 ms）連續(xù)采樣，可一次記錄多達 15 000 條光譜，滿足快速工藝監(jiān)控需求

  。
2. 測量精度與靈敏度
• 內(nèi)置高分辨率光譜儀與超高靈敏度光電探測器，保證光譜響應度數(shù)據(jù)精準

  。
• 對 200 nm 紫外區(qū)仍保持高靈敏度，可檢測低強度自由基或離子發(fā)射

  。
3. 光纖與多腔室接口
• 標配 SMA 接口光纖，可便捷接入不同反應腔

  。
• 一臺分析單元通過 USB 2.0 最多可同時控制 4 臺 C10346-01，實現(xiàn)多腔室并行監(jiān)測

  。
4. 終點與異常檢測
• 配套數(shù)據(jù)采集軟件可實時建庫，并可選配“檢測模型”軟件，通過發(fā)射光譜變化自動判別蝕刻/清洗終點，及早發(fā)現(xiàn)空氣泄漏、雜質(zhì)侵入或異常放電

  。
• 支持腳本級光譜運算、歸一化、微分、積分等算法，可輸出 0–10 V 模擬量與 TTL 數(shù)字量信號，與主機臺 EES 或 PLC 對接

  。
5. 數(shù)據(jù)管理與可視化
• 光譜數(shù)據(jù)可寫入 Access、SQLite、SQL Server 或 Oracle 數(shù)據(jù)庫；可顯示任意時刻或波長的時間-強度曲線、3D 波形，并估算等離子體活性成分

  。
• 提供趨勢圖、模擬圖表、故障檢測模型建立等分析工具，幫助工程師優(yōu)化工藝窗口

  。