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全新 EVIDENT LEXT OLS5500 激光共聚焦顯微鏡，將激光掃描顯微（LSM），白光干涉測量（WLI），聚焦變化顯微（FV）三大成像技術集于一身 —— 以超高的精度和可驗證的準確度，捕捉每一處表面細節(jié)。

它正重新定義表面測量的可能性：
激光掃描顯微（LSM）與白光干涉測量（WLI）雙模式精度保障；
白光干涉測量模式下（WLI），檢測效率可最高提升40倍；
適配各類樣品類型與形狀，檢測更具信心。

專為不愿在準確度與速度上妥協(xié)的研發(fā)（R&D）、質量保證（QA）及質量控制（QC）團隊打造。

LEXT™ OLS5500是一款屢獲殊榮的成像平臺，融合了激光掃描顯微鏡（LSM）、白光干涉儀（WLI）和聚焦變化顯微鏡（FVM）技術。 該產品專為研發(fā)、質量保證和質量控制團隊設計，可提供精確的表面細節(jié)、可追溯的精度以確保測量的可靠性，以及直觀的用戶體驗以簡化工作流程。 由精密光學、可驗證校準和智能自動化驅動的可信數據，幫助實驗室實現從最初發(fā)現到最終判定的無縫過渡。

OLS5500融合LSM、WLI和FVM三種成像技術于一體，在提供便捷操作體驗的同時，實現了較傳統(tǒng)激光共聚焦顯微鏡快40倍的檢測效率。它也是款為LSM與WLI測量結果提供準確性與重復性*雙重保障的三維光學輪廓測量設備。

測量更精準，工作更安心

屢獲殊榮的 LEXT™ OLS5500融合了激光掃描顯微鏡（LSM）、白光干涉儀（WLI）和聚焦變化顯微鏡（FVM）三種技術于一體，確保清晰、準確地測量樣品表面。

精準表面測量的多方位成像解決方案

• LSM： 橫向分辨率，精準測量粗糙紋理、微觀結構和陡峭斜面。

• WLI： 納米級垂直精度，適合測量光滑表面、斜面和薄膜。

• FVM： 從宏觀到微觀測量全覆蓋，適用于測量需要更廣視野的大面積或不規(guī)則區(qū)域。

多種測量方法互為補充—可為每一種表面提供合適的成像模式。 一套系統(tǒng)覆蓋從納米級到毫米級測量、從平坦區(qū)域到陡峭斜坡測量，生成全面、真實的表面數據。