兆聲濕法清洗設(shè)備 若名芯
| 參考價 | ¥ 10000 |
| 訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 若名芯半導體科技(蘇州)有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 江蘇省蘇州市張家港市鳳凰鎮(zhèn)金鳳凰微納產(chǎn)業(yè)園
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2026/2/4 15:14:19
- 訪問次數(shù) 31
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| 非標定制 | 根據(jù)客戶需求定制 |
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兆聲濕法清洗設(shè)備是一種結(jié)合高頻聲波與化學溶液的精密清洗裝備,在半導體、光電子等領(lǐng)域的核心制程中發(fā)揮關(guān)鍵作用。其核心原理是通過800kHz至3MHz的兆聲波產(chǎn)生“聲流效應(yīng)”和溫和的微空化作用,高效去除晶圓表面亞微米級顆粒污染物(如聚合物、光刻膠殘留),同時避免傳統(tǒng)超聲波可能引發(fā)的物理損傷。
與傳統(tǒng)20kHz至80kHz的超聲波相比,兆聲波頻率更高,氣泡更小、生命周期更短,內(nèi)爆能量極低,既能破壞污染物與基材間的范德華力,又不會損傷精密結(jié)構(gòu)。
設(shè)備架構(gòu)方面,兆聲清洗槽通常采用耐腐蝕材質(zhì)(如石英、PVDF或PP外包不銹鋼),并集成兆聲換能器、溫控系統(tǒng)及自動供液裝置。支持多槽串聯(lián)工藝:預(yù)洗→主洗→漂洗→干燥,可減少30%以上化學試劑消耗,且通過閉環(huán)廢液回收系統(tǒng)降低環(huán)境污染。
該設(shè)備廣泛應(yīng)用于多個領(lǐng)域。例如,CMP后清洗、刻蝕后殘留物去除;封裝中的晶圓級封裝清洗、TSV清洗;MEMS器件制造中的釋放刻蝕后結(jié)構(gòu)清洗等。



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