DNK大日本科研國內(nèi)代理無掩膜曝光裝置

DNK大日本科研無掩膜曝光裝置MX-1205? 是一款專為微機電系統(tǒng)（MEMS）、光電子器件、半導(dǎo)體研發(fā)及小批量生產(chǎn)設(shè)計的高精度曝光設(shè)備，適用于實驗室和科研場景中的精細(xì)圖案化工藝。

該設(shè)備采用?無掩膜光刻技術(shù)?，通過數(shù)字微鏡器件（DMD）或類似空間光調(diào)制技術(shù)直接將圖形投射到基板上，無需傳統(tǒng)物理掩膜版，大幅降低研發(fā)成本并提升靈活性。其主要特點包括：

?高分辨率成像?：支持微米級線寬曝光，滿足MEMS、傳感器、微流控芯片等精密器件的制造需求。

?多尺寸兼容性?：可處理直徑達??300mm?的晶圓或方形基板，適應(yīng)多種科研與中試材料規(guī)格。

?曝光模式靈活?：支持接觸式、接近式及投影式曝光，可根據(jù)工藝需求選擇模式，平衡分辨率與對準(zhǔn)容差。

?軟件控制系統(tǒng)?：配備專用圖形生成與路徑規(guī)劃軟件，支持CAD文件直接導(dǎo)入，實現(xiàn)快速圖形編輯與曝光序列自動化。

?應(yīng)用場景廣泛?：適用于液晶聚合物、光刻膠、薄膜太陽能、柔性電子等新型材料的圖案化加工。

此外，MX-1205延續(xù)了DNK系列設(shè)備在?穩(wěn)定性與易操作性?方面的優(yōu)勢，整機結(jié)構(gòu)緊湊，適合潔凈室環(huán)境部署，維護簡便，是高校、研究院所及企業(yè)研發(fā)部門進行優(yōu)良微納加工的理想選擇。

  DNK大日本科研國內(nèi)代理無掩膜曝光裝置

利用獨自的高速描畫「Point Array方式」技術(shù)直接描畫圖形的裝置。

主要特長

能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。

能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、屏幕遮罩、金屬面具、PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。

由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以最大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場供應(yīng)時間。

此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。