HITSemi-PVD-460SC 高真空磁控濺射鍍膜設備（圓形平面靶）
| 參考價 | ￥ 1 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱 鵬城微納技術（沈陽）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 HITSemi-PVD-460SC
- 產(chǎn)地 遼寧省沈陽市大東區(qū)望花南街15號
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2026/5/6 15:35:47
- 訪問次數(shù) 21
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高真空磁控濺射鍍膜設備（圓形平面靶）主要是用圓形磁控濺射靶進行濺射的方法，制備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質(zhì)復合膜及其它化學反應膜等；適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料。
高真空磁控濺射鍍膜設備（圓形平面靶）也可用于TGV/TSV/TMV xian*jin*封裝的研發(fā)，高深徑比（≥10:1）的深孔金屬種子層鍍膜。
主要特點
基片和靶材之間的距離可調(diào)整，以適應不同靶材的成膜工藝的距離要求。
磁控濺射靶頭可調(diào)角度，以便針對不同尺寸基片的均勻性，做精準調(diào)控。
工藝氣體采用勻氣技術，氣場更均勻，鍍膜更均勻。
樣品臺可增加偏壓裝置，可用于深孔鍍膜，可調(diào)控鍍膜質(zhì)量。
技術參數(shù)
| 產(chǎn)品型號 | HITSemi-PVD-460SC |
| 基片尺寸 | 4"~8" |
| 磁控靶尺寸 | 2"~6" |
| 磁控靶數(shù)量 | 1個～3個，圓形平面靶 |
| 腔體材質(zhì) | 304/316（選配）不銹鋼，電解拋光 |
| 真空系統(tǒng) | 分子泵+機械泵（可選配，干泵） |
| 極限真空 | 5X10-5Pa |
| 恢復工作背景真空 | 大氣至7×10-4Pa，30分鐘左右（新設備充干燥氮氣） |
| 設備總體漏放率 | 關機12小時真空度≤8Pa |
| 濺射方向 | 由下向上/由上向下（由用戶指定） |
| 濺射方式 | 單靶濺射、多靶輪流濺射、多靶共濺射 |
| 工藝電源 | 射頻電源、中頻電源、HIPIMS高能脈沖電源、直流脈沖電源、直流濺射電源 |
| 基片臺 | 基片臺可加熱600℃、可旋轉(zhuǎn)2~30轉(zhuǎn)/分鐘、可升降、可水冷（選配） |
| 膜厚均勻性 | 優(yōu)于±3% |
| 控制形式 | 半自動/全自動 |
| 工藝氣體 | 3路（N2、Ar、O2） |
| 基片臺偏壓 | 可選配 |
| 等離子清洗源 | 可選配 |
| 膜厚監(jiān)控 | 可選配 |
| 恒溫制冷水箱 | 可選配 |
| 空氣壓縮機 | 可選配 |
設備工作條件
| 供電 | 三相五線制，AC 380V，50Hz；接地電阻≤1Ω |
| 功率 | 根據(jù)設備規(guī)模配置，峰值功率（5KW~10KW） |
| 冷卻水 | ≤100L/min |
| 水壓 | 0.1Mpa~0.15MPa |
| 水溫 | 18℃～25℃ |
| 氣動部件供氣壓力 | 0.5MPa～0.7MPa |
| 質(zhì)量流量控制器供氣壓力 | 0.05MPa～0.2MPa |
| 工作環(huán)境溫度 | 10℃～40℃ |
| 工作環(huán)境濕度 | ≤50% |
關于我們
鵬城微納技術（沈陽）有限公司，由哈爾濱工業(yè)大學（深圳）與有多年實踐經(jīng)驗的工程師團隊共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術前沿、市場前沿和產(chǎn)業(yè)前沿的交叉點，尋求創(chuàng)新yin*ling與可持續(xù)發(fā)展，解決產(chǎn)業(yè)的痛點和國產(chǎn)化難題，爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。
鵬城微納技術（沈陽）有限公司是鵬城半導體技術（深圳）有限公司全資子公司，是半導體和泛半導體工藝和裝備的設計中心和生產(chǎn)制造基地。
公司核心業(yè)務是微納技術與gao*duan精密制造，具體應用領域包括半導體和泛半導體材料、工藝、裝備的研發(fā)設計、生產(chǎn)制造、工藝技術服務及裝備的升級改造，可為用戶提供工藝研發(fā)和打樣，可為生產(chǎn)企業(yè)提供生產(chǎn)型設備，可為科學研究提供科研設備。
公司人才團隊知識結(jié)構(gòu)完整，有工程師哈工大教授和博士，為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊，還有來自工業(yè)界的高級裝備設計師團隊，他們具有30多年的半導體材料研究、外延技術研究和半導體薄膜制備成套裝備設計、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗。
公司依托于哈爾濱工業(yè)大學（深圳），具備xian*jin的半導體研發(fā)設備平臺和檢測設備平臺，可以在高起點開展科研工作。公司總部位于深圳市，具備半導體和泛半導體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。
公司團隊技術儲備及創(chuàng)新能力
1998~2002
-設計了中試型的全自動化監(jiān)控的MOCVD，用于外延硅基GaN
-設計制造了聚氨酯薄膜的卷繞式鍍膜機
2005
-設計制造了中國di*yi臺wan*quan自主知識產(chǎn)權的MBE(分子束外延設備)，用于外延光電半導體材料
2007
-設計超高溫CVD 和MBE，用于4H晶型SiC外延生長
-設計制造了光學級金剛石生長設備（采用熱激發(fā)技術和CVD技術）
2015
-設計制造了金剛石涂層制備設備，制備了金剛石電極、微米晶和納米晶金剛石薄膜、導電金剛石薄膜
2017
-優(yōu)化Rheed設計，開始生產(chǎn)型MBE設計
-開始研發(fā)PSD方法外延GaN的工藝和裝備
2019
-設計制造了大型熱絲CVD金剛石薄膜的生產(chǎn)設備
2021
-鵬城半導體技術（深圳）有限公司成立
2022
-子公司鵬城微納成立；
-熱絲CVD設備、高真空磁控濺射儀、電子束蒸鍍機、分子束外延與磁控濺射聯(lián)用設備多套出貨
-獲得ISO9001質(zhì)量管理體系證書
2023
-PSD方法外延GaN裝備與工藝的技術攻關；
-科技型中小企業(yè)-入庫編號202344030500018573；
-創(chuàng)新型中小企業(yè)；
-獲50+項知識產(chǎn)權zhuan*li；
-企業(yè)信用評價3A*信用企業(yè)；/ISO三體系認證；
-子公司晶源半導體成立
2024~2026
-與jun*gong和上市頭部企業(yè)合作取得突破（X 光感受板及光電器件的薄膜生長等）
-鵬城微納子公司擴產(chǎn)
-TGV/TSV/TMV
-微光探測、醫(yī)療影像、復合硬質(zhì)涂層
-gao*xin*ji*shu企業(yè)
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