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1， 半導體制造工業(yè) 2， 設備應用 A. 曝光顯影設備 (涂膠，顯影) 光刻加工程序的主要設備及掌控涂層，曝光，顯影。 B. 清洗、蝕刻設備 用于蝕刻，清洗，去膜設備。
C. 清洗設備 適用于 物理沖洗清潔、顆粒清洗刷子、聲控及噴霧工藝。
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