分體式單靶磁控鍍膜儀 參考價：269500
本設備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：169800
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等
旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價：195600
旋轉粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導電性、耐腐蝕性等新功能。
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體 參考價：89000
本設備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：59000
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備，采用磁控濺射技術在基片表面沉積薄膜
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 參考價：458000
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術進行薄膜沉積的高精度設備.其核心原理是通過在真空環(huán)境下，利用高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射出來并沉積在基片表...
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：380000
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 參考價：185000
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實...
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍 參考價：156200
桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍是一種的物理氣相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實...
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制 參考價：198000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動控制可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：159800
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價：298000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：356000
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三...
三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：210000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀 參考價：32500
本設備為桌面型石英腔體單靶磁控鍍膜儀。設備經(jīng)過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速...
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀 參考價：58900
桌面型偏置靶單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設...
行星式單靶磁控鍍膜儀 參考價：58000
本設備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機構，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復雜樣品臺的功能型。設備外形為桌面級別，大大減少了安裝場地需求，...
桌面型靶下置型磁控鍍膜儀 參考價：68000
本設備為桌面型靶下置型磁控鍍膜儀。設備經(jīng)過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快...
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀 參考價：198700
3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1“射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng)，設計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價：98000
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室...
粉體包覆機磁控濺射鍍膜機 參考價：256900
粉體包覆機磁控濺射鍍膜機是通過粉未在濺射腔室內的旋轉，以達到粉未表面均勻包覆的效果。腔室可旋轉、傾斜，能快速出料。
桌面型單靶磁控鍍膜儀 參考價：98750
本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經(jīng)過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升...
桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型） 參考價：58900
本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀（鍍鋁型）。設備經(jīng)過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去...
桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價：89500
本設備為桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備
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