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| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)VU111
品 牌HORIBA/堀場(chǎng)
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地蘇州市
更新時(shí)間:2026-04-10 16:21:38瀏覽次數(shù):103次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)HORIBA堀場(chǎng)光致發(fā)光和拉曼晶圓成像
日本進(jìn)口HORIBA堀場(chǎng)激光脈沖壓縮光柵
國(guó)內(nèi)代理HORIBA堀場(chǎng)平場(chǎng)成像光柵
日本進(jìn)口HORIBA堀場(chǎng)刻劃閃耀反射光柵
日本HORIBA堀場(chǎng)同步輻射、FEL 和 EUV 光柵
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源 |
|---|
日本HORIBA堀場(chǎng)高性?xún)r(jià)比高性能迷你光譜儀
日本HORIBA(堀場(chǎng))高性?xún)r(jià)比高性能迷你光譜儀?(型號(hào):?MicroHR Series?)是一款集緊湊設(shè)計(jì)、光學(xué)性能與靈活擴(kuò)展性于一體的科研級(jí)微型光譜儀,專(zhuān)為需要高分辨率與多用途集成的實(shí)驗(yàn)室及工業(yè)OEM場(chǎng)景打造。該系列憑借出色的性?xún)r(jià)比,在拉曼、熒光、光致發(fā)光等分析領(lǐng)域廣受青睞?
國(guó)際學(xué)術(shù)。
其核心優(yōu)勢(shì)在于:
?短焦距高通量設(shè)計(jì)?:采用?140 mm短焦距?與大孔徑光學(xué)結(jié)構(gòu),在保證高光通量的同時(shí)實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的光譜分辨率(可達(dá)?0.25 nm?),適用于弱光信號(hào)檢測(cè)。
?寬光譜適用范圍?:波長(zhǎng)覆蓋從?150 nm(真空紫外)至15 μm(中紅外)?,配合不同光柵與探測(cè)器組合,可靈活適配紫外、可見(jiàn)到近紅外的多種應(yīng)用需求?
國(guó)際學(xué)術(shù)。
?成像級(jí)光學(xué)質(zhì)量?:采用?環(huán)形場(chǎng)校正(toroidal optics)技術(shù)?,顯著提升成像清晰度,支持作為成像光譜儀使用,適用于微區(qū)光譜分析與空間分辨測(cè)量。
?全自動(dòng)化控制?:配備?自動(dòng)雙光柵轉(zhuǎn)塔?、可調(diào)狹縫與高精度驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),支持遠(yuǎn)程切換光柵和波長(zhǎng)掃描,便于構(gòu)建無(wú)人值守的自動(dòng)測(cè)試平臺(tái)?
國(guó)際學(xué)術(shù)。
?即插即用接口?:集成?USB 2.0接口?,支持即插即用與軟件控制,兼容HORIBA自家及第三方光譜軟件,便于系統(tǒng)集成與二次開(kāi)發(fā)。
?多場(chǎng)景適配能力?:既可作為?掃描單色儀?用于激發(fā)或發(fā)射波長(zhǎng)選擇,也可作為?成像光譜儀?用于CCD陣列檢測(cè),廣泛應(yīng)用于?光致發(fā)光、熒光、拉曼散射、等離子體診斷?等領(lǐng)域。
該設(shè)備尤其適合預(yù)算有限但對(duì)性能有較高要求的研究機(jī)構(gòu)、高校實(shí)驗(yàn)室以及需要嵌入式光譜模塊的工業(yè)設(shè)備制造商,是實(shí)現(xiàn)高性能與成本平衡的理想選擇。
日本HORIBA堀場(chǎng)高性?xún)r(jià)比高性能迷你光譜儀
VU111是HORIBA Scientific旗下高性?xún)r(jià)比高性能系列微型光譜儀的最新進(jìn)化版本。這款專(zhuān)為工業(yè)應(yīng)用設(shè)計(jì)的VU111系統(tǒng)采用了一款針對(duì)紫外光譜范圍進(jìn)行優(yōu)化的微型化光學(xué)引擎。VU111基于高性能偏振校正凹面光柵構(gòu)建而成。該平臺(tái)特別設(shè)計(jì),能夠輕松適配多種類(lèi)型的檢測(cè)器和電子驅(qū)動(dòng)裝置。其光學(xué)設(shè)計(jì)經(jīng)過(guò)優(yōu)化,旨在減少雜散光并提升光學(xué)性能。VU111的性能優(yōu)于基于正面照明的CMOS線性傳感器或低成本背照式CCD的競(jìng)爭(zhēng)性微型光譜儀。

適用于OEM工業(yè)應(yīng)用
理想的應(yīng)用場(chǎng)景包括發(fā)射、吸收和反射。
示例:
·Semicon(通過(guò)等離子體分析的化學(xué)指紋)/UV與高分辨率結(jié)合用于光學(xué)發(fā)射光譜燃燒監(jiān)測(cè))
·計(jì)量學(xué):
·高效液相色譜/超高效液相色譜(優(yōu)異的雜散光抑制)
·高光譜分辨率(在312nm或223nm處可低至0.3nm分辨率)·標(biāo)準(zhǔn)CCD
·可根據(jù)要求提供CMOS/PDA可配置為線性CMOS以實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)性,或采用CCD以獲得最高靈敏度波長(zhǎng)范圍:深紫外/紫外
·超低雜散光
·高度可定制,適用于多種應(yīng)用高產(chǎn)量生產(chǎn)能力
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