您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊(cè)| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊(cè)| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
13915577898
當(dāng)前位置：美薩科技（蘇州）有限公司>>光源設(shè)備>>DNK大日本科研>> MX-1201進(jìn)口DNK大日本科研無(wú)掩膜曝光裝置
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)MX-1201
品 牌DNK/大日本科研
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地蘇州市
更新時(shí)間：2026-04-15 15:34:22瀏覽次數(shù)：126次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)
進(jìn)口DNK大日本科研實(shí)驗(yàn)研究用曝光裝置
國(guó)內(nèi)代理 DNK大日本科研研究用曝光裝置
進(jìn)口DNK大日本科研無(wú)掩膜曝光裝置MX-1201? 是一款專為研究開發(fā)、試作及小批量生產(chǎn)設(shè)計(jì)的直寫式曝光設(shè)備，廣泛應(yīng)用于?PCB、高密度封裝、平板顯示（FPD）和MEMS?等微細(xì)加工領(lǐng)域。
該裝置采用DNK「Point Of Array」高速描畫技術(shù)，無(wú)需傳統(tǒng)光刻掩膜，直接通過(guò)數(shù)字控制激光束在基板上繪制圖形，顯著?降低研發(fā)成本并縮短產(chǎn)品上市周期?。
其核心優(yōu)勢(shì)包括：
支持?5μm級(jí)最小線寬?（受光刻膠與顯影條件影響）
數(shù)據(jù)分辨率達(dá)?0.5μm?，確保圖形精度
最大可處理?200×200mm2基板?，有效曝光范圍全覆蓋
激光主波長(zhǎng)為?405±5nm?，適配多種光刻膠材料
曝光掃描速度高達(dá)?43.9mm/s?，提升作業(yè)效率
MX-1201特別適用于高校實(shí)驗(yàn)室、科研機(jī)構(gòu)及半導(dǎo)體中試產(chǎn)線，是實(shí)現(xiàn)快速原型驗(yàn)證的理想選擇。由于無(wú)需制作物理掩膜，尤其適合多品種、小批量的研發(fā)場(chǎng)景，避免高昂的掩膜成本浪費(fèi)。
進(jìn)口DNK大日本科研無(wú)掩膜曝光裝置MX-1201?
主要特長(zhǎng)
·能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。
·能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、屏幕遮罩、金屬面具、PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。
·由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以最大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場(chǎng)供應(yīng)時(shí)間。
·此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。
主要規(guī)格
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購(gòu)買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
化工儀器網(wǎng)