您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
13915577898
當(dāng)前位置：美薩科技（蘇州）有限公司>>光源設(shè)備>>DNK大日本科研>> MUM系列日本進(jìn)口DNK大日本科研MEMS用曝光裝置
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號MUM系列
品 牌DNK/大日本科研
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地蘇州市
更新時間：2026-04-15 16:47:49瀏覽次數(shù)：134次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)
日本進(jìn)口DNK大日本科研MEMS用曝光裝置
MUM系列? 是專為微機電系統(tǒng)（MEMS）、三維微結(jié)構(gòu)及厚膜光刻膠工藝研發(fā)打造的高精度曝光設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、傳感器、微流控芯片等前沿科研與小批量生產(chǎn)場景。
該系列設(shè)備采用創(chuàng)新的 ?Moving UV Mask法?（移動紫外掩膜技術(shù)），通過壓電定位平臺（Piezo Positioning Stage）在曝光過程中微幅移動掩膜，精確控制光刻膠表面的曝光能量分布，從而實現(xiàn)對?三維微細(xì)構(gòu)造體?的精準(zhǔn)成型，尤其適用于需要側(cè)壁傾斜、曲面結(jié)構(gòu)的復(fù)雜器件加工。
核心技術(shù)特點
?三維結(jié)構(gòu)成型能力?：
可控制厚膜光刻膠（如50μm以上）的側(cè)壁傾斜角度，支持任意曲面與傾斜結(jié)構(gòu)的制造，突破傳統(tǒng)光刻的二維限制。
?高均勻性照射系統(tǒng)?：
采用DNK自主研發(fā)的鏡面與鏡頭光學(xué)系統(tǒng)，確保大面積曝光區(qū)域內(nèi)的光照?高度均勻?，提升圖案一致性與良率。
?精密對位系統(tǒng)?：
配備非接觸式間隙傳感器、面內(nèi)均一間隙控制、多層曝光顯微鏡及X?Y?θ軸對位臺，支持高精度多層套刻，滿足復(fù)雜器件的疊層工藝需求。
日本進(jìn)口DNK大日本科研MEMS用曝光裝置
主要特長
·采用獨自的鏡面·鏡頭光學(xué)系統(tǒng),實現(xiàn)全面均勻的照射。
·配備有可設(shè)定非接觸·面內(nèi)均一間隙的間隙傳感器和對應(yīng)多層曝光的顯微鏡、X·Y·0軸對位臺的對位系統(tǒng)。
·采用Moving UV mask法(使用Piezo Positioning Stage,使掩膜在曝光中微細(xì)移動)能夠控制厚膜光刻膠的側(cè)壁傾斜角度,形成三維微細(xì)構(gòu)造體。
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
化工儀器網(wǎng)