代理DNK大日本科研直立型近接曝光裝置

大日本科研（DNK）MA-6801ML直立型近接曝光裝置?是一款專為G3～G5級大尺寸顯示基板設(shè)計的高精度、高速度曝光設(shè)備，廣泛應(yīng)用于觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C-STN及電子紙等優(yōu)良顯示技術(shù)的量產(chǎn)工藝中。

該設(shè)備采用?垂直式結(jié)構(gòu)設(shè)計?，將掩模與基板豎直放置，有效減少因自重引起的彎曲變形，無需額外進行偏轉(zhuǎn)校正，從而實現(xiàn)更穩(wěn)定、更簡單的裝置運行。主機與光源單元分離，避免光源熱量傳導(dǎo)至主體，顯著改善設(shè)備內(nèi)部熱分布，提升曝光穩(wěn)定性與重復(fù)精度。

核心參數(shù)與技術(shù)優(yōu)勢：

?基板尺寸?：最大支持 ?650 × 750 mm?，適用于G3～G5級基板

?掩模尺寸?：700 × 800 × t8.0 mm，兼容大尺寸掩模

?光源類型?：8千瓦超高壓汞燈，提供高強度、均勻的曝光能量

?對位方式?：非接觸預(yù)對位 → 自動對位（具備感應(yīng)功能），實現(xiàn)高速高精度對準(zhǔn)

?節(jié)拍時間?：約 ?20秒?（不含曝光時間），適合高速量產(chǎn)

?光學(xué)系統(tǒng)?：采用新型低傾斜角設(shè)計，使影響圖案轉(zhuǎn)印精度的二偏角小于常規(guī)值的一半，大幅提升轉(zhuǎn)印準(zhǔn)確度

?可選配置?：

掩模冷卻系統(tǒng)

基板臺溫度控制系統(tǒng)

熱室

特殊對準(zhǔn)照明

?自動化集成?：支持內(nèi)嵌水平輸送式前后處理設(shè)備，便于接入全自動生產(chǎn)線

?掩模存儲?：可安裝5槽掩模庫，提升換模效率與產(chǎn)線連續(xù)性

應(yīng)用場景：

MA-6801ML特別適用于需?大面積一次性均勻曝光?的高精度工藝，如：

液晶顯示器（LCD）彩色濾光片制造

有機發(fā)光二極管（OLED）面板生產(chǎn)

觸摸屏與電子紙等新型顯示器件的圖形轉(zhuǎn)印

其獨特的垂直構(gòu)造與熱管理設(shè)計，使其在高精度、高穩(wěn)定性要求的量產(chǎn)環(huán)境中表現(xiàn)出色，是顯示制造產(chǎn)線中的關(guān)鍵設(shè)備之一。

代理DNK大日本科研直立型近接曝光裝置

主要特長

·直立配置掩膜臺/基板臺。不需補正由掩膜/掩膜臺/基板臺的自身重量而造成的彎曲變形構(gòu)造簡單，安定性高。

·采用新型光學(xué)系統(tǒng),使影響圖形轉(zhuǎn)印精度的傾斜角降低至過去的一半以下(與本公司裝置相比,可實現(xiàn)更高精度的圖形轉(zhuǎn)印。

·分離本體與光源部。光源的熱量傳遞不到本體,改善了本體部的熱量分布水準(zhǔn)。

·為了防止因掩膜及玻璃基板的溫度差造成的伸縮變形,可選擇基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)。(選購項)

·最大基板尺寸為1,200mmx1,400mm。通過獨自的光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)了均勻的一次性曝光。

 ·能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫。