NS-OEM系列(膜厚測量套件)是基于 NS-20 薄膜測厚儀研發(fā)的,用于太陽能鈣鈦礦多層膜厚測量,其光學探頭設計得較為緊湊,可適用于多種安裝環(huán)境。為確保測量精準,光學探頭需與樣品表面保持垂直,建議使用我們配備的調角工具來精準調節(jié)安裝角度。光學探頭經(jīng)由光纖連接到主機,光纖長度靈活可變,能夠滿足不同布局的安裝需求。
- 波長范圍:190-1000 nm 或 350-1100 nm.
- 光學探頭專為集成到自動化設備、在線系統(tǒng)、真空腔室、原位生長腔室以及其他特殊環(huán)境而設計,以滿足多樣化的應用需求。

參數(shù)規(guī)格

1、取決于被測樣品材料以及選用的波段范圍;
2、選用硅晶圓上的二氧化硅標準厚度樣品 (厚度范圍500~1000nm);
3、計算100次測量500nm SiO2標準片的1倍標準偏差,對20個有效測量日的1倍標準偏差取平均;
4、取決于配方復雜度,標準案例為硅晶圓上的二氧化硅標準厚度測量配方。