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| 參考價(jià): | ¥ 99999 |
| 訂貨量: | 1件 |
- EGN-206M 產(chǎn)品型號(hào)
- ULVAC/日本愛(ài)發(fā)科 品牌
- 經(jīng)銷(xiāo)商 廠商性質(zhì)
- 廈門(mén)市 所在地
訪問(wèn)次數(shù):24更新時(shí)間:2026-06-22 11:20:44
馮女士
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| 供貨周期 | 一個(gè)月以上 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,制藥/生物制藥,汽車(chē)及零部件,綜合 |
|---|
采用平頂結(jié)構(gòu)可減少電子束蒸發(fā)源上的薄膜面積,實(shí)現(xiàn)高度可維護(hù)性。
ULVAC/日本愛(ài)發(fā)科電子束槍,型號(hào):EGN-206M
ULVAC/日本愛(ài)發(fā)科電子束槍,型號(hào):EGN-206M
電子束氣相沉積(EB氣相沉積)是一種利用電子束加熱和蒸發(fā)材料,在基板上形成薄膜的技術(shù)。 該技術(shù)以能夠形成高精度、高純度薄膜為特征,并被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。 它特別適合高熔點(diǎn)材料和需要高純度的薄膜形成,廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子和裝飾等多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域。
電子束氣相沉積(EB氣相沉積)被廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。 應(yīng)用大致分為兩種膜類(lèi)型,代表性如下。
(1)光學(xué)薄膜
?鏡片和鏡面上的防反射涂層(AR涂層)
?反射性和干涉膜(如激光光學(xué)元件和濾光片)
·光學(xué)元件
高精度多層涂層 (2) 金屬薄膜
?半導(dǎo)體、集成電路(IC) 電
極膜的形成 ·裝飾品表面涂層 EB
沉積成功的關(guān)鍵在于妥善管理以下要點(diǎn):
·真空環(huán)境
管理 ?電子束控制
?材料和基底質(zhì)量控制
·薄膜厚度和沉積速率的穩(wěn)定:通過(guò)妥善管理
這些措施并全面實(shí)施安全措施,可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的工藝和高質(zhì)量的薄膜形成。
電子槍?zhuān)娮邮鴺專(zhuān)┯糜陔娋щ姶艢獬练e,是一種利用電子束加熱并汽化材料的裝置。 與傳統(tǒng)電阻加熱相比,它可以加熱到更高溫度,從而實(shí)現(xiàn)即使是高熔點(diǎn)材料也能高效蒸發(fā)。 另一個(gè)主要特點(diǎn)是其高精度和能夠形成均勻薄膜的能力。 Alback還提供一系列適用于各種應(yīng)用的電子槍?zhuān)娮邮鴺專(zhuān)?/span>
特色
抑制反射電子入射到基板上,減小基底溫度上升
采用平頂結(jié)構(gòu)使電子束蒸發(fā)源上的薄膜面積較小,便于清潔。
通過(guò)采用新的發(fā)射結(jié)構(gòu),零件數(shù)量比以往型號(hào)減少到60%,使組裝更加便捷。
通過(guò)更換部分,你可以選擇絲帶形和點(diǎn)狀梁。
通過(guò)基于多年積累的技術(shù)設(shè)計(jì),我們實(shí)現(xiàn)了可靠性。
規(guī)格
| 模型 | EGN-206M | EGN-406M | |
| 電子束偏轉(zhuǎn)角 | 270° | ||
| 坩堝計(jì)數(shù) | 6 | ||
| 坩堝容量 | 20cc | 40cc | |
| 坩堝尺寸:頂部×底部×深度 | Φ42×Φ32×19(毫米) | Φ50×Φ41×25(毫米) | |
| 冷卻水體積 | 哈斯 | 10升/分鐘或更高 | |
| 其他 | 2升/分鐘或更高 | ||
| 外部尺寸(W×D×H)不包括突出物 | 214×343×144(毫米) | ||
| 質(zhì)量 | 28公斤以下 | ||
| 沉積率 | 1.6微米/分鐘 (帶狀梁/鋁/8千瓦/40cc坩堝/250H,位于心臟正上方) | ||
| 最大加速電壓 | -10kV | ||
| 最大發(fā)射電流 | 0.8A | 1.0A | |
| 適用電源 | HPS-1000N-100/HPS-1000N-200 | ||



