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宮崎科技（廈門）有限公司
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EGO-40MULVAC/日本愛發(fā)科光學電子束槍
| 參考價: | ￥ 99999 |
| 訂貨量: | 1件 |
具體成交價以合同協(xié)議為準- EGO-40M 產(chǎn)品型號
- ULVAC/日本愛發(fā)科 品牌
- 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
- 廈門市 所在地
訪問次數(shù)：4更新時間：2026-06-22 11:24:07
馮女士
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產(chǎn)品簡介
| 供貨周期 | 一個月以上 | 應用領域 | 能源,電子/電池,制藥/生物制藥,汽車及零部件,綜合 |
|---|
產(chǎn)品介紹
ULVAC/日本愛發(fā)科光學電子束槍，型號：EGO-40M
ULVAC/日本愛發(fā)科光學電子束槍，型號：EGO-40M
電子束氣相沉積（EB氣相沉積）是一種利用電子束加熱和蒸發(fā)材料，在基板上形成薄膜的技術。 該技術以能夠形成高精度、高純度薄膜為特征，并被廣泛應用于多個領域。 它特別適合高熔點材料和需要高純度的薄膜形成，廣泛應用于光學、電子和裝飾等多個工業(yè)領域。
電子束氣相沉積（EB氣相沉積）被廣泛應用于多個領域。 應用大致分為兩種膜類型，代表性如下。
（1）光學薄膜
?鏡片和鏡面上的防反射涂層（AR涂層）
?反射性和干涉膜（如激光光學元件和濾光片）
·光學元件
高精度多層涂層 （2） 金屬薄膜
?半導體、集成電路（IC） 電
極膜的形成 ·裝飾品表面涂層 EB
沉積成功的關鍵在于妥善管理以下要點：
·真空環(huán)境
管理 ?電子束控制
?材料和基底質(zhì)量控制
·薄膜厚度和沉積速率的穩(wěn)定：通過妥善管理
這些措施并全面實施安全措施，可以實現(xiàn)穩(wěn)定的工藝和高質(zhì)量的薄膜形成。
電子槍（電子束槍）用于電晶電磁氣沉積，是一種利用電子束加熱并汽化材料的裝置。 與傳統(tǒng)電阻加熱相比，它可以加熱到更高溫度，從而實現(xiàn)即使是高熔點材料也能高效蒸發(fā)。 另一個主要特點是其高精度和能夠形成均勻薄膜的能力。 Alback還提供一系列適用于各種應用的電子槍（電子束槍）
特色
由于電子束被電磁場偏轉(zhuǎn)，次級電子對基底的影響極小。
即使是升華材料，也可以沿X軸和Y軸掃描，以消除鉆孔，促進平滑蒸發(fā)。 （日本**831485，注冊號為843447）
由于電子束以270°偏轉(zhuǎn)，因此不會暴露在蒸發(fā)物質(zhì)的蒸氣中，絲狀物壽命較長。
由于發(fā)射極組件易于安裝和拆卸，更換耗材、絕緣體及類似部件非常簡單。
規(guī)格
| 模型 | EGO-1G | EGO-40M | |
| 束流偏轉(zhuǎn)角 | 270° | ||
| 坩堝計數(shù) | 0 | 4 | |
| 坩堝容量 | - | 10cc ×2 / 40cc ×2 | |
| 坩堝尺寸：頂部×底部×深度 | - | 32Φ×24Φ×15H （毫米）/50Φ×41Φ×25H （毫米） | |
| 冷卻水體積 | 哈斯 | - | 10升/分鐘或更高 |
| 其他 | 2升/分鐘 | - | |
| 外部尺寸：W×D×H（不包括突出部分） | 166×285×174（毫米） | 170×309×174（毫米） | |
| 質(zhì)量 | 約12.5公斤 | 大約18公斤 | |
| 最大加速電壓 | -10kV | ||
| 最大發(fā)射電流 | 1.0A | 0.6A/1.0A | |
| 適用電源 | HPS-1000N-100/HPS-1000N-200 | ||
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