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成立于1819年，在近二百年的發(fā)展中，JobinYvon公司始終遵循著創(chuàng)建以來的一貫宗旨―高品質，使公司一直處于世界光柵及光譜儀生產(chǎn)的*地位，并不斷的創(chuàng)造著世界*。
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日本進口HORIBA堀場在線橢偏儀產(chǎn)品參數(shù)
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 價格區(qū)間 | 80萬-100萬 |
| 應用領域 | 能源 |
日本進口HORIBA堀場在線橢偏儀詳細信息
日本進口HORIBA堀場在線橢偏儀
日本HORIBA（堀場）在線橢偏儀?（In-situ Ellipsometer）是一類專為?半導體制造、光伏生產(chǎn)、平板顯示及優(yōu)良材料鍍膜工藝?設計的?原位、實時、非接觸式薄膜監(jiān)控系統(tǒng)?，能夠在真空腔體或反應環(huán)境中對薄膜生長過程進行連續(xù)、高精度的動態(tài)測量，實現(xiàn)從研發(fā)到量產(chǎn)全過程的閉環(huán)質量控制。
該系列設備的核心價值在于將高靈敏度橢偏測量技術與工業(yè)自動化深度融合，支持在?不破壞工藝環(huán)境?的前提下，對薄膜的?厚度、生長速率、光學常數(shù)（n, k）、結晶過程、界面演化?等關鍵參數(shù)進行毫秒級實時追蹤，顯著提升工藝穩(wěn)定性與產(chǎn)品良率。
核心型號與技術特點
1. ?UVISEL Plus In-situ：高靈敏度原位橢偏儀?
?光譜范圍?：?190–2100 nm?（FUV 到 NIR），覆蓋從深紫外到近紅外的寬譜段，適用于多種材料體系。
?核心技術?：采用?相位調制技術（PEM）?，無機械旋轉部件，具備?超高信噪比與長期穩(wěn)定性?，適合復雜工業(yè)環(huán)境。
?快速采集能力?：搭載 ?FastAcq™ 技術?，單點全譜掃描時間低至 ?50 毫秒/點?，可捕捉薄膜生長的瞬態(tài)過程（如 ALD 原子層沉積）。
?高靈敏度?：可檢測?小于 1 nm 的超薄膜層?或界面變化，甚至能分辨多層結構中的微小成分偏析。
?原位集成設計?：
支持通過 ?CF35 或 KF40 法蘭?直接接入 PVD、CVD、ALD、MOCVD 等工藝腔體。
可選配?石英窗或光纖探頭?，實現(xiàn)遠程光路耦合，避免高溫、等離子體對儀器損傷。
?數(shù)據(jù)同步輸出?：支持與工藝控制系統(tǒng)（如 PLC、MES）對接，實現(xiàn)實時反饋調節(jié)（如自動終止沉積、調整氣體流量）。
2. ?Smart SE In-situ：智能型在線監(jiān)控橢偏儀?
?定位?：面向?中低端產(chǎn)線與教學科研場景?，強調易用性與成本效益。
?光譜范圍?：?450–1000 nm?，適用于常見透明/半透明薄膜（如 SiO?、SiNx、ITO）的生長監(jiān)控。
?特點?：
模塊化設計，支持?離線調試與在線部署自由切換?。
配備?一鍵式操作軟件?，非專家用戶也可快速上手。
支持?多點 Mapping 與時間序列分析?，生成生長曲線與均勻性熱圖。
日本進口HORIBA堀場在線橢偏儀
VS印相位調制型光譜橢偏儀是一款可在線測量薄膜厚度和光學特性的設備，可為客戶聽過定制化交鑰匙工程。它的測試速度快，50ms即可獲得數(shù)據(jù)，可有力的監(jiān)控整個膜的均勻性。
UVISEL的激發(fā)和收集頭設計非常容易耦合到輥對輥系統(tǒng)中，同時軟件具有優(yōu)良的通信能力滿足輥對輥生產(chǎn)。
軟件便于操作人員控制。按鈕操作啟動流程，提供在線的薄膜厚度和光學特性信息以及可追溯的結果。通過使用UVISEL，保證了高生產(chǎn)率和低停機時間。開發(fā)的專屬算法確保在停電時也可得到可靠的數(shù)據(jù)。
針對使用輥對輥系統(tǒng)的柔性太陽能電池、柔性顯示器和照明以及柔性超高屏障的苛刻需求，UVISEL在線光譜橢偏儀保證了薄膜質量控制。
概要/配置
·超快速測試，可達50ms
·用戶友好
·可靠的數(shù)據(jù)
·集成簡單，多輥對輥加工能力
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內容聲明：
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