是一種無掩模光刻系統(tǒng)，具有兩個易操作的軟件，用戶可以創(chuàng)建個人微結(jié)構(gòu)圖案，從單個微通道到復(fù)雜的微觀結(jié)構(gòu)都可以創(chuàng)建。
具有技術(shù)突破性設(shè)計和靈活性優(yōu)勢，非常適合加工微納結(jié)構(gòu)用于MEMS，BioMEMS，微流控系統(tǒng)，傳感器，光學(xué)元件，MicroPatterning微圖案化，實驗室單芯片，CMOS傳感器和所有其他需要微結(jié)構(gòu)的應(yīng)用。

無掩模光刻系統(tǒng)可以快速而輕松地做出許多種微圖案結(jié)構(gòu)，從zui jian dan到非常復(fù)雜的都可以。它的寫入磁頭裝備有一個激光二極管（波長405納米- 50毫瓦），光學(xué)掃描器和F-θ透鏡（405納米）。激光束根據(jù)設(shè)定微結(jié)構(gòu)圖案而運動。
為了方便使用，較好的再現(xiàn)性和較高的質(zhì)量，焦距是可以根據(jù)基片厚度進(jìn)行調(diào)節(jié)的。圖像采集期間可以使用控制面板調(diào)節(jié)焦距。幾個基片厚度都可以使用。