Ion Source離子源適用于各種應(yīng)用的高亮度等離子離子源

等離子離子源 LMIS 和 GFIS 是三種常見的離子源類型。LMIS 和 GFIS 具有出色的源亮度。因此，它們被廣泛用于高分辨率離子束成像和微加工應(yīng)用。然而，LMIS 和 GFIS 的總電流比等離子離子源低許多數(shù)量級。如果特征尺寸大于 50 nm，則等離子離子源可以實(shí)現(xiàn)比 LMIS 和 GFIS 高得多的通量。

等離子離子源可以通過改變工藝氣體產(chǎn)生不同種類的離子。此外，等離子離子源能夠與質(zhì)量過濾器結(jié)合使用產(chǎn)生負(fù)離子種類。

我們在為大學(xué)和工業(yè)的研究實(shí)驗(yàn)室設(shè)計定制的高亮度等離子離子源和離子光學(xué)柱方面擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)。請聯(lián)系我們討論您的要求。