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當(dāng)前位置：上海連航機(jī)電科技有限公司>>其他>> Onto計(jì)量系統(tǒng)Atlas G6
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地上海市
更新時(shí)間：2026-04-10 15:31:51瀏覽次數(shù)：54次
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MECHANO TRANSFORMER俯仰轉(zhuǎn)向臺(tái)
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電氣 |
|---|
產(chǎn)品名稱：Onto計(jì)量系統(tǒng)Atlas G6
產(chǎn)品型號(hào)：Atlas G6
產(chǎn)品介紹
Atlas G6 系統(tǒng)是一款專為優(yōu)良的邏輯和存儲(chǔ)器件而設(shè)計(jì)的光學(xué)相干密度 (OCD) 和薄膜計(jì)量工具。它旨在滿足下一代人工智能應(yīng)用及未來應(yīng)用的需求，提供增強(qiáng)的光學(xué)性能、人工智能驅(qū)動(dòng)的配方開發(fā)以及更準(zhǔn)確的工具匹配，從而實(shí)現(xiàn)更好的工藝控制。隨著半導(dǎo)體制造商向下一代 GAA 節(jié)點(diǎn)、下一代 HBM 和垂直 DRAM 架構(gòu)邁進(jìn)，工藝控制的要求也日益嚴(yán)格。更小的納米片結(jié)構(gòu)和更密集的 DRAM 單元需要更高的測量精度、更快的配方開發(fā)速度以及更嚴(yán)格的設(shè)備匹配。
Atlas G6 系統(tǒng)與 Onto Innovation 的 Discover生態(tài)系統(tǒng)集成，為晶圓廠提供預(yù)測性工藝控制和智能制造能力，從而加速良率提升，縮短業(yè)界優(yōu)良器件的上市時(shí)間。
性能特點(diǎn)
l 采用全新光學(xué)設(shè)計(jì)，旨在應(yīng)對這些挑戰(zhàn)，顯著提升信噪比、光譜穩(wěn)定性和測量精度。
l 增強(qiáng)的軟件算法和數(shù)據(jù)管理工具可實(shí)現(xiàn)更佳的全系統(tǒng)光譜匹配，而 Ai Diffract軟件中的全新數(shù)據(jù)通道和新一代模型引導(dǎo)機(jī)器學(xué)習(xí)技術(shù)則可實(shí)現(xiàn)更快、更穩(wěn)健的配方開發(fā)。
l 更小的光斑尺寸確保了對當(dāng)今緊湊的 DRAM 結(jié)構(gòu)進(jìn)行準(zhǔn)確測量。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)地：美國
設(shè)計(jì)：光學(xué)
軟件：Ai Diffract OCD 分析軟件
測量結(jié)構(gòu)：垂直DRAM、納米片結(jié)構(gòu)
集成：Discover生態(tài)系統(tǒng)
應(yīng)用行業(yè)：半導(dǎo)體
計(jì)量類型：相干密度 (OCD) 和薄膜
數(shù)據(jù)管理工具：包含
測量精度：納米級
匹配對象：光譜
產(chǎn)品應(yīng)用
光刻、蝕刻、CVD 和 CMP 工藝在所有器件領(lǐng)域的 OCD
局部變化
不對稱和傾斜
普通膜和關(guān)鍵膜
應(yīng)力和晶圓翹曲
產(chǎn)地 | 美國 |
設(shè)計(jì) | 光學(xué) |
軟件 | Ai Diffract OCD 分析軟件 |
測量結(jié)構(gòu) | 垂直DRAM、納米片結(jié)構(gòu) |
集成 | Discover生態(tài)系統(tǒng) |
應(yīng)用行業(yè) | 半導(dǎo)體 |
計(jì)量類型 | 相干密度 (OCD) 和薄膜 |
數(shù)據(jù)管理工具 | 包含 |
測量精度 | 納米級 |
匹配對象 | 光譜 |
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