高硼硅透明真空光學氣室

產品概述

高硼硅透明真空 光學氣室是專為氣體光譜分析、真空環(huán)境光學實驗設計的高性能樣品池。氣室主體采用優(yōu)質高硼硅玻璃（Borosilicate Glass 3.3）材質，具備極低的膨脹系數（≈3.3×10??/K）和優(yōu)異的化學穩(wěn)定性，可在真空度≤1×10?3 Pa的環(huán)境下長期工作。氣室兩側焊接精密光學窗口，確保紫外?可見?近紅外（200?2500 nm）波段的高透過率，是氣體吸收光譜、化學反應過程監(jiān)測、環(huán)境氣體分析等科研與工業(yè)應用的理想選擇。

核心參數

產品特點

? 高透明、高純凈
高硼硅透明真空光學氣室采用3.3級高硼硅玻璃管材，壁厚均勻，氣泡級別達到0?1級，視覺通透性良好，便于實驗過程中直接觀察氣體流動、顏色變化或冷凝現象。

? 極低的膨脹系數
高硼硅玻璃的熱膨脹系數僅為3.3×10??/K，遠低于普通鈉鈣玻璃。這意味著在劇烈溫度變化（如加熱/抽真空放氣）時，氣室本體不易炸裂，可安全連接加熱帶或放入恒溫箱中使用。

? 優(yōu)異的化學穩(wěn)定性
耐水、耐酸、耐堿、耐有機溶劑（氟化物與氟酸除外），可輕松清洗重復使用，避免污染殘留。特別適合腐蝕性氣體（如HCl、SO?、H?S）或高純氣體的光譜分析。

? 精密光學窗口
氣室兩端焊接高精度紫外熔融石英窗口，窗口與玻璃本體通過過渡密封玻璃（鎢組玻璃）匹配封接，氣密性達1×10?? Pa·m3/s（氦質譜檢漏）。窗口雙面拋光，表面粗糙度≤0.5 nm，保證入射光斑畸變最小化。

? 多種接口與光程
標準配置KF真空快卸法蘭，可快速接入真空系統(tǒng)（機械泵、分子泵或真空計）。光程長度從10 mm到100 mm可選，也可根據實驗要求定制更長光程（200 mm、500 mm）。窗口傾斜角度可定制（0°或5°），用于消除標準具效應。

典型應用領域

氣體吸收光譜研究
將高硼硅透明 真空光學氣室接入FTIR或UV?Vis分光光度計的光路，通過抽真空后充入待測氣體，精確測量氣體在特定波長的吸收截面，用于環(huán)境監(jiān)測（SO?、NOx、CO?）、工業(yè)過程控制（合成氨轉化率、尾氣分析）及大氣物理研究。

光催化反應過程監(jiān)測
氣室可作為原位光譜池，配合紫外燈或激光光源，實時追蹤光催化反應中氣相產物的生成與消耗。高硼硅玻璃對紫外光有一定透過性（＞70% @ 300 nm），配合石英窗口可覆蓋更寬的激發(fā)波段。

真空鍍膜/等離子體診斷
氣室可承受低壓強，通過兩端法蘭連接等離子體發(fā)生器或蒸發(fā)源，用于薄膜沉積過程中的光學在線監(jiān)測（橢圓偏振、反射率測試）。高透明度便于CCD相機記錄等離子體發(fā)光形態(tài)。

教學演示
在高校物理化學實驗教學中，高硼硅透明真空 光學氣室可直觀展示氣體分子對特定波長光的吸收，并讓學生直接觀察真空抽氣、充氣過程，增強互動性。

定制選項

質量保證與包裝

• 出廠檢驗：每只氣室均經1×10?3 Pa真空保壓12小時及氦質譜檢漏，確保無泄漏。

• 包裝：多層防震珍珠棉內襯+硬質紙箱，確保運輸安全。

• 售后服務：提供安裝指導及維修支持。窗口若出現劃痕可返廠再拋光。

操作注意事項

1. 使用前用丙酮或酒精擦拭外表面，窗口禁止用手直接觸摸。
   2 抽真空時請緩慢開啟閥門，避免壓差過大導致玻璃破裂。

2. 嚴禁在高真空下加熱至300℃以上（高硼硅玻璃軟化點約820℃，但密封處耐受溫度低于300℃）。

3. 若需存放腐蝕性氣體或長期保持真空，建議充入干燥惰性氣體保護。

本文由蘇州陶邁森TAOMSUN技術團隊整理完成。
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