Atolyze™-MINI 原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
桌式原子層沉積系統(tǒng)，Atolyze™-MINI 原子層沉積系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)與機(jī)器人聯(lián)動(dòng)，支持樣品自動(dòng)裝卸、跨設(shè)備傳輸，實(shí)現(xiàn)72小時(shí)無(wú)人化運(yùn)行。
Nexalayer™-8'' 原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
原子層沉積設(shè)備，Nexalayer™-8'' 原子層沉積系統(tǒng)，可與超高真空（UHV）系統(tǒng)（如 XPS, STM）直接互聯(lián)，實(shí)現(xiàn)樣品原位分析與制備。
Nexalayer™-6'' 原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
原子層沉積系統(tǒng)，Nexalayer™-6'' 原子層沉積系統(tǒng)，可與超高真空（UHV）系統(tǒng)（如 XPS, STM）直接互聯(lián)，實(shí)現(xiàn)樣品原位分析與制備。
Nexalayer™-4'' 原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
等離子體增強(qiáng)原子層沉積，Nexalayer?-4'' 原子層沉積系統(tǒng)，可與超高真空（UHV）系統(tǒng)（如 XPS, STM）直接互聯(lián)，實(shí)現(xiàn)樣品原位分析與制備。
Atolyze™-MEDI 原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD系統(tǒng),Atolyze™-MEDI 原子層沉積系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)與機(jī)器人聯(lián)動(dòng)，支持樣品自動(dòng)裝卸、跨設(shè)備傳輸，實(shí)現(xiàn)72小時(shí)無(wú)人化運(yùn)行。
PVD多腔室互聯(lián)系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Korvus PVD多腔室互聯(lián)系統(tǒng)：磁控濺射、電子束、熱阻蒸發(fā)以及手套箱集成。憑借高度模塊化設(shè)計(jì)滿足制造商和研究人員在薄膜沉積應(yīng)用中對(duì)定制化與靈活性的核心需求。
PVD薄膜沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Korvus Technology的HEX系列薄膜沉積系統(tǒng)提供了多樣的沉積源選項(xiàng)，包括磁控濺射、電子束蒸發(fā)、有機(jī)蒸發(fā)薄膜沉積和熱阻蒸發(fā)等，可適用于您的各類研究和...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
會(huì)員.png)
1