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當(dāng)前位置:深圳市科時達(dá)電子科技有限公司>>鍍膜沉積機>> CS-200zULVAC愛發(fā)科真空濺射鍍膜機
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號CS-200z
品 牌ULVAC-PHI
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地深圳市
更新時間:2026-06-03 13:39:15瀏覽次數(shù):280次
聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)Denton 等離子體增強型化學(xué)氣相沉積 PE-CVD
PECVD+RIE等離子體增強化學(xué)氣相沉積和反應(yīng)
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),石油,能源,制藥/生物制藥,綜合 |
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• Loadlock式,自動運行,操作簡單
• 成膜面積大,均勻性好
• T/S距離60~180mm可調(diào),適用廣
• 可換托盤式,基板尺寸切換簡便
• 2~8inch,方片,未定型片,切換兼容
• 向上濺射,向下濺射可選,顆粒抑制
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 半導(dǎo)體,LED,電力電子,高校及研究所等。
產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• Loadlock式,自動運行,操作簡單
• 成膜面積大,均勻性好
• T/S距離60~180mm可調(diào),適用廣
• 可換托盤式,基板尺寸切換簡便
• 2~8inch,方片,未定型片,切換兼容
• 向上濺射,向下濺射可選,顆粒抑制
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
• 半導(dǎo)體,LED,電力電子,高校及研究所等。
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