ULTRA 半導(dǎo)體有掩模直寫光刻系統(tǒng)為微控制器、電源管理集成電路、發(fā)光二極管、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備、光電子學(xué)和微機(jī)電系統(tǒng)的光掩膜生產(chǎn)提供了功能出色、經(jīng)濟(jì)高效的解決方案，可提供大產(chǎn)量和盈利能力所需的速度、精度和可靠性。

利用高吞吐量加快生產(chǎn)

最大限度地減少工具停機(jī)時(shí)間，以超越傳統(tǒng)工具的生產(chǎn)效率滿足苛刻的生產(chǎn)計(jì)劃。ULTRA 半導(dǎo)體有掩模直寫光刻系統(tǒng)先進(jìn)的曝光引擎和優(yōu)化的寫入模式大大縮短了光罩寫入時(shí)間，使您能夠在 45 分鐘內(nèi)生產(chǎn)出標(biāo)準(zhǔn)的 6 英寸光罩。

基于SLM技術(shù)的高速曝光引擎：提供高達(dá)580 mm2/分鐘的書寫速度，同時(shí)確保成像質(zhì)量不受影響。

全自動(dòng)面罩處理：通過簡(jiǎn)單易用的面罩裝載界面減少操作員的開銷，并確保在連續(xù)操作中穩(wěn)定、可重復(fù)地裝載和卸載面罩。

優(yōu)化的寫入模式：可靈活地優(yōu)先考慮速度或分辨率，以滿足您的特定工作要求。

以毫不妥協(xié)的精度實(shí)現(xiàn)最高產(chǎn)量

每一納米都至關(guān)重要。ULTRA 建立在高精密組件的基礎(chǔ)上，以確保優(yōu)異的疊加、套準(zhǔn)和臨界尺寸 (CD) 一致性，光罩一個(gè)接一個(gè)。

高精度平臺(tái)系統(tǒng)：全氣浮平臺(tái)和零熱膨脹ZERODUR®卡盤提供了優(yōu)秀的穩(wěn)定性并消除了熱漂移。

先進(jìn)的位置控制：高分辨率差分干涉儀系統(tǒng)可確保極其精確和可重復(fù)的特征定位。

工具匹配功能：板載校正功能可讓您精確匹配多臺(tái)機(jī)器的輸出，確保整個(gè)光罩集的一致性。

優(yōu)異的圖像質(zhì)量和無(wú)縫集成

生產(chǎn)出色無(wú)瑕的光掩膜，其特征保真度符合嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)。ULTRA 的定制光學(xué)器件可在 500 納米以下實(shí)現(xiàn)清晰、輪廓分明的結(jié)構(gòu)。其周到的設(shè)計(jì)可確保毫不費(fèi)力地融入您的現(xiàn)有設(shè)備。

定制的高納光學(xué)器件：我們定制設(shè)計(jì)的寫入鏡頭和低畸變紫外光學(xué)元件可確保優(yōu)異的圖像質(zhì)量和結(jié)構(gòu)均勻性。

占地面積小：該系統(tǒng)只需占用極小的潔凈室空間，可輕松集成到現(xiàn)有的掩膜車間基礎(chǔ)設(shè)施中，無(wú)需進(jìn)行昂貴的翻新。

久經(jīng)考驗(yàn)的可靠性：ULTRA 是一個(gè)經(jīng)過行業(yè)測(cè)試的合格平臺(tái)，深受全球光掩膜車間的信賴。