EBPG 超高性能電子束光刻系統(tǒng)以高精度實現(xiàn)穩(wěn)定可重復(fù)的工藝結(jié)果，確保在各類基底上獲得高器件良率，是該電子束光刻系統(tǒng)的核心設(shè)計準則。在此基礎(chǔ)上，EBPG 極其適用于量產(chǎn)工況、工業(yè)研發(fā)場景以及頂尖科研機構(gòu)，可滿足各類對電子束光刻（EBL）性能有著嚴苛且無妥協(xié)要求的專業(yè)應(yīng)用需求。                

EBPG 超高性能電子束光刻系統(tǒng)主要特征            

?5 納米以下高分辨率光刻工藝

?晶圓及多樣品自動曝光功能

?曝光參數(shù)自動切換與校準，可在高吞吐量模式（最高束流 350 納安）與高分辨率模式之間無縫穩(wěn)定切換

?全球頂尖套刻精度                               

?超高速工件臺，穩(wěn)定建立時間極短           

?雙工位 / 十工位自動氣鎖裝置          

?快速無差錯樣品對準                                    

?先進圖形裂解模式，實現(xiàn)低線邊緣粗糙度與最高圖形保真度         

?高效數(shù)據(jù)處理能力             

?簡易易學(xué)的圖形用戶界面與可腳本化終端界面

?支持多權(quán)限分級的安全多用戶運行環(huán)境