無水風冷結構，實驗室部署零門檻

紅外鹵素燈極速升溫，溫場均勻穩(wěn)定

日本ADVANCE RIKO 空冷臺式紅外快速退火爐

多氣氛處理，適配各類材料熱處理需求

1. 大氣氛圍：常規(guī)氧化、烘干、薄膜耐熱測試；

2. 惰性氣體（N?/Ar）：隔絕氧氣，金屬、熱電材料退火；

3. 可控氣流氣氛：持續(xù)通入保護氣，還原、燒結實驗；

4. 真空環(huán)境：搭配外置真空泵實現(xiàn)低真空退火，適配半導體晶圓、易氧化樣品。

   機身標配數(shù)字氣體流量計，精準調控保護氣通入流量，氣路采用標準 1/4 英寸世偉洛克快插接頭，拆裝管路便捷。

可編程智能溫控，支持電腦上位機聯(lián)動

全面安全聯(lián)鎖防護，長時間實驗無憂

主流適配應用場景

1. 半導體行業(yè)：硅片、化合物晶圓快速退火、基板光 CVD 預熱；

2. 薄膜涂層領域：光學膜、金屬鍍層耐高溫老化、耐熱性能評估；

3. 新材料研發(fā)：熱電材料、陶瓷、磁性材料、催化劑燒結；

4. 金屬工藝：小型金屬片退火、氫氣還原去除氧化層；

5. 高分子實驗室：樹脂、有機薄膜低溫烘干、熱穩(wěn)定性測試；

6. 可靠性測試：零部件冷熱循環(huán)、高溫老化耐久實驗。