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SMAP-A1東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)超微細(xì)形狀専用機(jī)PX 5842
SMAP-III東洋研磨材TOYO 出色平衡中型機(jī)器PX 5842
SMAP-II東洋研磨材TOYO 打磨機(jī)緊湊的通用機(jī)PX 5842
無掩膜/激光直寫光刻機(jī)PX 0
C-43型 9英寸國產(chǎn)光刻機(jī)PX 0
C-43型多點光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)PX 0
C-33型 4英寸 國產(chǎn)高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)PX 0
C-33型 國產(chǎn)雙面光刻機(jī) 精密光刻設(shè)備PX 0
C-31型 雙面國產(chǎn)光刻機(jī)PX 0
C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準(zhǔn)光刻機(jī)PX 0
C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機(jī)精密光刻設(shè)備PX 0
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C-25型單面光刻機(jī) 高精度PX 0
PPS-8200p1/8300p1日本orc半導(dǎo)體光刻機(jī)PX 5842
激光干涉光刻機(jī)PX 2245
激光直寫光刻機(jī)PX 2245
無掩膜激光直寫光刻機(jī)-MicroWriter ML3PX 0
UTADLP投影技術(shù)的無掩膜光刻機(jī)PX 0
TTT-07-UV Litho-ACA無掩膜版紫外光刻機(jī)PX 0
無掩模光刻機(jī)PX 0
DS-2000/1.0無掩模光刻機(jī)PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
紫外激光直寫光刻機(jī)
無掩模紫外激光直寫系統(tǒng)
織雀™系列 PL-3D Premium高精密微3D光刻機(jī)
UV Litho-Y 無掩模光刻機(jī)
BIO 系列無掩模光刻機(jī)
UV Litho-S+ 無掩模光刻系統(tǒng)
UV Litho-ACA Master無掩模光刻系統(tǒng)
Nanocrystal 大幅面納米光刻系統(tǒng)
日本無掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
無掩膜光刻系統(tǒng)
國產(chǎn)光刻機(jī)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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