田永福
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當(dāng)前位置：北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司>>光學(xué)儀器設(shè)備/配件>>等離子源>> NEO 200ATrymax等離子去膠機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)NEO 200A
品 牌Trymax
廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商
所 在 地北京市
更新時(shí)間：2026-06-23 11:45:10瀏覽次數(shù)：22次
田永福
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 100萬(wàn)-150萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子/電池,航空航天,電氣,綜合 |
Trymax NEO 200A是荷蘭Trymax推出的緊湊型單腔Trymax等離子灰化設(shè)備，面向半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室、中試小批量產(chǎn)線，完成光刻膠整體灰化、高劑量離子注入剝離、Descum邊緣殘膠清除、薄層氮化硅/碳化硅干法蝕刻等工藝。當(dāng)前MEMS、化合物半導(dǎo)體、射頻濾波器研發(fā)試樣普遍存在設(shè)備占地龐大、基板兼容單一、長(zhǎng)期運(yùn)維成本偏高的痛點(diǎn)，這款Trymax等離子灰化設(shè)備憑借極小機(jī)身、模塊化等離子源、低CoO綜合擁有成本，成為國(guó)內(nèi)高校實(shí)驗(yàn)室、功率半導(dǎo)體試制車(chē)間主流采購(gòu)機(jī)型。
在半導(dǎo)體前道試樣工序中，Trymax等離子灰化設(shè)備可兼容100/150/200mm硅、SiC、氮化硅、高分子封裝基板，硬件無(wú)改動(dòng)即可切換不同尺寸晶圓，大幅縮減產(chǎn)線換型停機(jī)時(shí)長(zhǎng)。整機(jī)搭載4軸雙臂全自動(dòng)機(jī)械手，機(jī)械產(chǎn)能穩(wěn)定大于100wph，配套雙開(kāi)放式料盒承載平臺(tái)，適配小批量不間斷試樣加工需求。設(shè)備搭載Windows工業(yè)工控系統(tǒng)，Devicenet-EtherCAT全數(shù)字通訊總線，可選配SECS-II工廠主機(jī)通訊協(xié)議，整機(jī)通過(guò)SEMI S2/S8、CE、EU-RoHs行業(yè)安全規(guī)范，UL安全認(rèn)證按需加裝。
北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司，田永福。
Trymax NEO 200A、Trymax NEO 2000、Trymax NEO 2400、Trymax NEO 3000、Trymax NEO 3400、Trymax NEO 2000UV
| 參數(shù)項(xiàng)目 | 設(shè)備詳細(xì)規(guī)格 |
|---|---|
| 適配晶圓尺寸 | 100mm/150mm/200mm多規(guī)格兼容 |
| 機(jī)械手配置 | 4軸雙臂自動(dòng)傳輸機(jī)械手 |
| 標(biāo)準(zhǔn)機(jī)械產(chǎn)能 | ＞100片/小時(shí) |
| 等離子腔體方案 | 微波下游/RF偏壓/微波射頻雙源/CCP射頻四選一 |
| 控制系統(tǒng) | Windows工業(yè)電腦、Devicenet-EtherCAT總線 |
| 可選拓展功能 | SECS-II通訊、UL認(rèn)證、晶圓冷卻工位 |
| 合規(guī)標(biāo)準(zhǔn) | SEMI S2/S8、CE、EU-RoHs |
這款Trymax等離子灰化設(shè)備提供四種可自由選配的工藝腔體模塊，2.45GHz微波下游適配整片光刻膠均勻灰化，13.56MHz射頻偏壓用于氮化硅、TaSi金屬薄層蝕刻，微波+射頻雙源組合專門(mén)處理高劑量注入后頑固殘膠，CCP頂部射頻實(shí)現(xiàn)高精度晶圓表面活化。全部腔體模塊支持后期加裝，設(shè)備拓展靈活性遠(yuǎn)超同價(jià)位國(guó)產(chǎn)小型等離子設(shè)備。
Trymax等離子灰化設(shè)備廣泛覆蓋MEMS微機(jī)電犧牲層釋放、BAW/SAW射頻濾波器小批量光刻處理、先進(jìn)封裝PI/BCB/PBO薄膜等離子清洗、化合物半導(dǎo)體剝離預(yù)處理。設(shè)備整機(jī)維護(hù)周期長(zhǎng)、耗材損耗低，針對(duì)年產(chǎn)能萬(wàn)片以內(nèi)的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，綜合擁有成本優(yōu)勢(shì)顯著。全球累計(jì)300余臺(tái)NEO系列設(shè)備落地各大半導(dǎo)體廠區(qū)，其中NEO 200A機(jī)型占據(jù)研發(fā)試樣設(shè)備近四成裝機(jī)量。
機(jī)身緊湊，潔凈車(chē)間占地面積遠(yuǎn)低于同規(guī)格進(jìn)口等離子設(shè)備；
多尺寸基板無(wú)縫切換，無(wú)需改造硬件適配不同晶圓規(guī)格；
全數(shù)字總線控制，工藝參數(shù)完整追溯，滿足半導(dǎo)體工廠品質(zhì)管控標(biāo)準(zhǔn)；
整機(jī)出廠通過(guò)SEMI行業(yè)安全規(guī)范，可直接對(duì)接無(wú)塵車(chē)間自動(dòng)化產(chǎn)線。
綜合來(lái)看，Trymax NEO 200A作為入門(mén)級(jí)Trymax等離子灰化設(shè)備，平衡工藝性能與采購(gòu)運(yùn)維成本，是高校實(shí)驗(yàn)室、功率半導(dǎo)體中試線、射頻器件試制車(chē)間干法等離子處理方案。
Trymax NEO 200A等離子灰化設(shè)備、8英寸實(shí)驗(yàn)室等離子去膠機(jī)、荷蘭Trymax小型等離子清洗設(shè)備、MEMS研發(fā)干法蝕刻設(shè)備
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