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CAPSTONE CS200-Sa CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
CAPSTONE CS200-Sa CMP化學機械拋光系統(tǒng)是 Axus Technology 的下一代 CMP 處理工具，具有市場上優(yōu)良的晶圓拋光性能，適用于 ...
F-REX300XA CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
F-REX300XA CMP化學機械拋光系統(tǒng)是進一步提升生產效率、高性能且靈活的CMP設備
CMP Orbis System化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
高效且可重復的結果在化學機械平坦化（CMP）工藝中至關重要，尤其是在試點生產和科研環(huán)境中。CMP Orbis System化學機械拋光系統(tǒng)是一款精密設計的落地式...
GnP GPC-300A CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
韓國GnP GPC-300A CMP化學機械拋光系統(tǒng)是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
GNP POLI-400L CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
GNP POLI-400L CMP化學機械拋光系統(tǒng)設計用于高級 CMP 工藝開發(fā)應用，如 MEMS 以及 CMP 特性研究。該系統(tǒng)擁有成本低，占地面積小。
GNP POLI-500 CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
GNP POLI-500 CMP化學機械拋光系統(tǒng)用于4英寸、6英寸和8英寸晶圓，廣泛應用于耗材供應商、基板制造商和芯片開發(fā)商的8英寸（200毫米）高級研發(fā)評估。...
GNP POLI-762 CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
GNP POLI-762 CMP化學機械拋光系統(tǒng)旨在實現(xiàn)12英寸（300毫米）CMP工藝開發(fā)、材料評估和前期生產運行的高多功能性。GNP POLI-762 也為...
AP300 CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
AP300 CMP化學機械拋光系統(tǒng)是一款科研級的CMP系統(tǒng)，采用CTS公司工業(yè)級的設計理念，為科研工作者及優(yōu)良制程開發(fā)公司提供了一套研究級別的設備，可兼容4寸，...
Universal-300B CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
Universal-300B CMP化學機械拋光系統(tǒng)是基于華海清科自主知識產權的創(chuàng)新技術開發(fā)的12英寸CMP裝備。該裝備配備性能優(yōu)異的拋光單元，兼容4/6/8/...
Universal-S300 CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
Universal-S300 CMP化學機械拋光系統(tǒng)是面向行業(yè)前沿需求，開發(fā)的一款集優(yōu)良拋光工藝、高效率、高穩(wěn)定性于一體的12英寸CMP裝備。
TriboLab CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
TriboLab CMP化學機械拋光系統(tǒng)用其前身產品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領域專業(yè)知識，為業(yè)界突出的 TriboLab 平臺帶...
Universal-H300 CMP化學機械拋光系統(tǒng) 參考價：面議
Universal-H300 CMP化學機械拋光系統(tǒng)是華海清科面向行業(yè)前沿需求，開發(fā)的一款集優(yōu)良拋光工藝、高效率、高穩(wěn)定性于一體的12英寸CMP裝備。
MBE 8000分子束外延系統(tǒng) 參考價：面議
MBE 8000分子束外延系統(tǒng)旨在滿足高性能復合半導體器件日益增長的需求。這種8×6'或4×8'固態(tài)源MBE系統(tǒng)，在超高真空環(huán)境中使用超純金屬，在設計、溫度均勻...
MBE 6000分子束外延系統(tǒng) 參考價：面議
MBE 6000分子束外延系統(tǒng)是全球每個成功的大批量商家或內部 epi 操作的核心。它是高通量和可重復性的MBE基準。活動時間通常超過一年，這證明了反應堆的穩(wěn)定...
MBE 49分子束外延系統(tǒng) 參考價：面議
MBE 49分子束外延系統(tǒng)有四臺反應器，專門用于沉積砷化物、磷化物、氮化物和氧化物。這些行業(yè)前沿的機器容量為200毫米、150毫米、四片4英寸晶圓或五片3英寸晶...
MBE 412分子束外延系統(tǒng) 參考價：面議
MBE 412分子束外延系統(tǒng)憑借全自動樣品轉移、12源端口靈活性以及無論材料系統(tǒng)如何均可重復的晶圓制造質量的epi，412設計以實現(xiàn)這些目標。從基礎材料研究到設...
AIX 2800G4-TM CVD化合物化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
AIX 2800G4-TM CVD化合物化學氣相沉積系統(tǒng)是面向GaAs/InP 光電器件與射頻器件的量產型行星式 MOCVD 設備，主打高均勻性、高產能與低單片...
AIX G5+ C CVD化合物化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
AIX G5+ C CVD化合物化學氣相沉積系統(tǒng)是一類專門用于制備化合物半導體材料的設備，這些材料通常由兩種或多種元素組成，如GaAs、GaN和SiC等。這些材...
G10-ASP CVD砷化鎵化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
G10-ASP CVD砷化鎵化學氣相沉積系統(tǒng)是面向GaAs/InP 基光電器件的全自動高性能 MOCVD 設備，主打高均勻、低缺陷、高產能，專為Micro LE...
G10-GaN CVD氮化鎵化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
G10-GaN CVD氮化鎵化學氣相沉積系統(tǒng)是面向6/8 英寸 GaN 功率與射頻器件的新一代量產型 MOCVD 設備，高產能、高均勻性、低成本，專為新能源與 ...
G10-SiC CVD碳化硅化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
G10-SiC CVD碳化硅化學氣相沉積系統(tǒng)是一種專門用于生產碳化硅（SiC）材料的設備，它采用化學氣相沉積（CVD）或其他相關技術，在特定條件下將碳和硅元素以...
PD-3800L PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PD-3800L PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)。
PD-220NL PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PD-220NL PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)是一種負載鎖定等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非...
PD-2201LC PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
PD-2201LC PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)是一種盒式裝載等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 設備，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和...
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