TAU Series離子微粒吸附設(shè)備 參考價：面議
TAU Series離子微粒吸附設(shè)備在面板生產(chǎn)中主要應(yīng)用于曝光機設(shè)備，用于去除空氣中可能會降低曝光機鏡組折射率的有害物質(zhì)。同時具有精確控制溫度和控制濕度的功能。
TRU Series熱回收系統(tǒng)設(shè)備 參考價：面議
Oven設(shè)備是目前TFT產(chǎn)線耗電量較大的設(shè)備，Oven設(shè)備熱排管道排出的是230℃的高溫有機廢氣（光刻膠升華物），大量的熱能被浪費掉。在排氣管路上安裝熱能回收的...
PlasmaPro 100 Cobra感應(yīng)耦合等離子刻蝕 參考價：面議
PlasmaPro 100 Cobra感應(yīng)耦合等離子刻蝕是英國牛津儀器公司推出的一款高性能、高靈活性的電感耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)。它主要服務(wù)于優(yōu)良半導(dǎo)體、微機電系...
Hesper TO230R 單片減壓濕法氧化擴散系統(tǒng) 參考價：面議
Hesper TO230R 單片減壓濕法氧化擴散系統(tǒng)適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、科研等領(lǐng)域，單腔或多腔多種設(shè)計，可滿足不同客戶需求，低擁有成本和低運營...
Booster SWA單片退火系統(tǒng) 參考價：面議
Booster SWA單片退火系統(tǒng)主要用于12英寸后段金屬互聯(lián)退火工藝。該機臺為多腔集群設(shè)備，能夠進行全自動并行工藝處理。系統(tǒng)主要由傳輸模塊和3個工藝模塊組成，...
AGF Series電阻式SiC長晶爐 參考價：面議
AGF Series電阻式SiC長晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長，多加熱器設(shè)計允許靈活的工藝和熱場設(shè)置，下裝載結(jié)構(gòu)可實現(xiàn)便捷的開裝爐及維護...
SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備 參考價：面議
SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備可同時配備多種藥液，主要用于12英寸后段和前段清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給模塊、電源柜等組成，標(biāo)配8個腔...
Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備 參考價：面議
Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜...
APS Series感應(yīng)式SiC長晶爐 參考價：面議
APS Series感應(yīng)式SiC長晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長，創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計，可提供高純材料生長能力，擁有高精度的控溫、控壓能力，工藝...
NVT-HG單晶生長爐 參考價：面議
NVT-HG單晶生長爐主于光伏產(chǎn)業(yè)8-12英寸單晶硅制備工藝，該機臺具有大投料量，高拉速，低能耗，自動化、智能化的優(yōu)點。能夠進行全自動并進行工藝處理。系統(tǒng)主要由...
GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機 參考價：面議
GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35...
Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng) 參考價：面議
Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運行。該設(shè)備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模...
THEORIS A302 12英寸立式低溫退火爐 參考價：面議
THEORIS A302 12英寸立式低溫退火爐在中低溫條件下，通入N?、H?或D?等氣體，以消除硅片界面處金屬及非金屬晶格缺陷和晶格損傷，優(yōu)化硅片界面質(zhì)量，提...(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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